集成电路布图设计权

基本定义：集成电路布图设计权是对集成电路产品中，各层构成元件及其相互连接的导体材料、半导体材料或绝缘材料所构成的三维配置的独创性布图设计给予保护的一种专门知识产权类型，是半导体芯片行业特有的知识产权保护制度。

保护的独创性要求：受保护的布图设计需要具备独创性，即该布图设计是布图设计创作者自己的智力劳动成果，且在创作时该布图设计在集成电路行业内不属于常规、通用的设计。

适用行业：主要适用于从事集成电路芯片设计和制造的企业，是这类企业保护自身芯片核心设计成果、防止他人未经许可复制布图设计生产同类芯片的重要法律工具。

保护期限：集成电路布图设计权的保护期限为自申请日起10年，与实用新型专利的保护期限相同，权利期满后该布图设计进入公有领域。